我国半导体光刻设备领域再创辉煌

近日，36氪从可靠渠道获悉，上海芯上微装科技股份有限公司（以下简称“AMIES”）自主研发的首台350nm步进光刻机（型号AST6200）已正式完成出厂调试与验收，并启程发往客户现场。这一里程碑式的成就标志着我国在高端半导体光刻设备领域再次实现关键突破。

作为全球半导体产业的核心环节，光刻技术一直是制约我国芯片产业的“卡脖子”关键技术之一。此次AMIES成功研制出350nm步进光刻机，无疑将为我国芯片产业的发展注入新的活力。

自主研发，打破国外垄断

据悉，此次发运的AST6200光刻机采用先进的深紫外光源和成像技术，具备高精度、高性能的特点。该设备在设计和制造过程中，AMIES充分发挥了国内科研团队的力量，成功突破了多项关键技术难题。

值得一提的是，AST6200光刻机的研发历时数年，期间经历了无数次的试验与改进。AMIES董事长兼总经理张先生表示：“我们深知这一成果来之不易，这也充分体现了我国在半导体领域的自主创新能力。”

助力国产芯片产业崛起

AST6200光刻机的成功发运，不仅意味着我国在高端光刻设备领域取得了重要突破，更为我国芯片产业的发展提供了有力支持。

长期以来，我国芯片产业受制于人，高端光刻设备的依赖严重。此次AST6200的成功研制，将有助于降低我国在光刻领域的对外依存度，为国产芯片的崛起奠定坚实基础。

行业专家点赞

对于AST6200光刻机的发运，业界人士纷纷表示祝贺。一位半导体行业专家表示：“AMIES此次成功研发350nm步进光刻机，标志着我国在高端半导体设备领域迈出了坚实的一步。这将对我国芯片产业的发展产生重大影响。”

展望未来，AMIES将继续加大科研投入，努力推动我国半导体产业实现自主可控。我们有理由相信，在不久的将来，我国在芯片领域的国际地位将得到进一步提升。

此次AST6200光刻机的成功发运，是我国半导体产业发展的又一重要里程碑。让我们共同期待，在未来，我国芯片产业能够早日实现全球领先。